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阿斯麦ASML表示通常直接从荷兰出口DUV光刻机到中国无需申请许可

荷兰半导体设备制造商阿斯麦日前公布2020Q3季度财报 , 财报显示当季度销售额为40亿欧元净利润达11亿欧元。

报道称阿斯麦向客户交付并可确认收入的光刻机达到60台,其中14台为制程工艺更加先进的极紫外光刻机(EUV).

目前该公司正在研发技术更先进的极紫外光刻机,该型号的新极紫外光刻机计划在 2021 年年中交付给下游客户。

新机型为TWINSCANNXE:3600D , 其曝光速度可达30mJ/cm² , 每小时可曝光160片晶圆 , 生产率提高18%左右。

阿斯麦ASML表示通常直接从荷兰出口DUV光刻机到中国无需申请许可

阿斯麦称DUV光刻机通常无需申请美国许可:

此前因为美国商务部的相关禁令和出口限制,阿斯麦无法向中国某些半导体制造商直接提供技术先进的光刻设备。

针对该问题阿斯麦首席财务官在财报会议上表示,通常如果直接荷兰出口深紫外光刻机到中国大陆无需获得许可。

深紫外光刻机 (DUV) 属极紫外光刻机(EUV)的前代技术工艺 , 深紫外光刻机可制造工艺要求相对低些的芯片产品。

目前业界领先的制程工艺如7纳米和5纳米等都需要极紫外光刻机 , 极紫外光刻机价格也是深紫外光刻机的两倍多。

阿斯麦表示深紫外光刻机如果设备或零件涉及从美国运送到中国特定客户,则需要事先向美国商务部申请许可证。

但如果直接从阿斯麦总部也就是荷兰出口到中国则不需要申请许可证,阿斯麦所说的特定客户其实就是中芯国际。

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